膜厚测量系统 利用分光光谱反射仪来精确地测量光学或非光学薄膜厚度，可广泛应用 于半导体、医疗和工业生产中。
利用白光干涉测量法的原理，膜厚测量系统 用一个宽光谱的光源来测得不同波长的反射数据，由于反射率 n 和消光系数 k 随 膜厚的不同而变化，它 根据这一特性来进行曲线拟合从而求得膜厚。
在 膜厚测量系统中，不同类型材料的相应参数通过不同的模型来描述，从而保证了不同类型材料膜厚测量的准确性。
■UV/VIS/NIR 高分辨率的配置；
■测量准确度在 1nm，精度在 0.1nm；
■可测量 4 层薄膜的任意 3 层；
■薄膜测量最小可至 10nm，最大可至 400um；
■可测量最小 1nm 厚的透明金属层；
■提供试验台及附件用于复杂外形材料的测量；
■对表面缺陷和光滑度不敏感；
■庞大的材质数据库，保证各种材料的精确测量。
LH01 的膜厚测量范围为10nm-400um，测量精度为 0.1nm，只要待测材料有一定程度的透射就能通过LH01进行膜厚测量，这些材料包括氧化物、氮化物和保护膜层等通常这些覆膜的基底材料包括硅晶片或玻璃等。
1nm 以上的金属膜厚也能测量，只要不是完全不透光的。对于已知的系统，3层以内的多层膜厚测量可以在不到一秒钟时间内完成。
通常拟合曲线和实际曲线由于于涉会引起一些差异LH01的算法充分考虑到了这一点，从而可以在比较粗糙的表面进行测量。
应用领域
半导体:感光涂层、晶片膜厚、绝缘层等。
半导体:感光涂层、晶片膜厚、绝缘层等。
工业:增强膜，如金刚石镀层等。
激光和光学:增透膜、反射膜、防雾膜、增强膜等。
消费品:耐污涂层、饮料容器内部涂层等。
其它:空气间隙测量、MEMS 保护层、CD/DVD 涂层,玻璃或半导体材料上的超薄金属层等。
膜厚测量系统
